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產(chǎn)品詳細說明
美國ACM RESEARCH 刷洗設(shè)備
刷洗設(shè)備
主要優(yōu)勢
可配有溫和的氮氣霧化二流體清洗
可選配 進的空間交變相位移兆聲清洗技術(shù)
可配有背面軟刷清洗與邊緣刷洗
晶圓翻轉(zhuǎn)功能可依次進行背面與正面清洗
適用于超薄晶圓
4腔體8寸/12寸兼容刷洗設(shè)備可應(yīng)用于晶圓封裝領(lǐng)域
8腔體12寸刷洗設(shè)備可應(yīng)用于集成電路制造領(lǐng)域
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